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2026/5/21

【半導体】リンテック、つくばイノベーティブクリエーションセンター開設

　リンテックは、2026年5月21日開催の取締役会において、産業技術総合研究所つくばセンター中央事業所内に「リンテック つくばイノベーティブクリエーションセンター」を開設することを決議した。リンテックは同拠点に先端半導体の微細回路形成に欠かせないEUV露光機用ペリクル（防塵材料）の生産設備を導入し、研究開発および本格生産に向けた取り組みを推進する。
＜概要＞
正式名称：つくばイノベーティブクリエーションセンター
開設予定：2026年6月1日
所 在 地：茨城県つくば市東1-1-1（国立研究開発法人 産業技術総合研究所 つくばセンター 中央事業所 内）
人員体制：常勤約30人を予定

設立背景
　先端半導体の微細回路形成にはEUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外線）露光機が用いられるが、露光機の性能向上に伴い、フォトマスク（回路パターンの原版）への異物の付着を防ぐペリクルは耐熱性、耐久性や透過性といった面でより高い性能が求められている。
　リンテックグループでは以前から、CNT（カーボンナノチューブ）シートの開発を手がける米国・テキサス州の研究開発拠点と、国内の研究開発本部とが連携してCNT製ペリクルの開発を進めてきた。その要素技術を確立した2023年、リンテックは産総研 先端半導体研究センターと、EUV露光機用ペリクルの評価技術と半導体ミッドエンド向け製造プロセス技術の共同研究に着手し、翌年にはCNT製ペリクル膜の生産設備を開発。その後も引き続き製品開発・品質改良と、製造条件の最適化なども含めた量産プロセスの検討を並行して進めてきた。そして、今回、産総研つくばセンター中央事業所内に、新たな研究開発・生産拠点として「リンテック つくばイノベーティブクリエーションセンター」を開設することにした。
　同センターには、自社開発のCNT製ペリクル膜生産設備および関連設備などを導入。まずはフルサイズのペリクルサンプル供給に着手していくとともに、検査装置や製品供給に必要な付帯設備なども今後、段階的に導入する計画。産総研 先端半導体研究センターとの次世代半導体デバイス製造向けナノリソグラフィ要素技術に関する包括的な共同研究を継続するとともに、CNT製ペリクルについて顧客からサンプル評価をしてもらいながら、さらなる製品開発と本格生産に向けた取り組みを加速する。

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