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2025/10/31
【半導体】BASF、ルートヴィッヒスハーフェンに電子材料グレードアンモニア水のプラント新設
BASFは、半導体製造におけるウェハー洗浄、エッチング、その他の精密プロセスを支援するため、ドイツのルートヴィッヒスハーフェンに最新鋭の電子材料グレードアンモニア水(NH4OH EG)プラントを建設する。この超高純度化学品は、欧州における半導体企業の成長と拡大を支え、先進チップ生産のための現地サプライチェーンの強化に貢献するとしている。

今回のプラントの新設は、急速に進化する市場において技術的競争力を維持するために極めて重要な、欧州半導体業界向けのサプライチェーンの強靭化に向けたBASFの継続的な取り組みと合致するもの。 プラントは、2027年に稼働を開始する予定。

欧州ではチップ製造工場の新設や拡張が相次いでおり、アンモニア水をはじめとする半導体グレードの高品質かつ高純度化学品に対する需要が非常に高まっている。このような需要の高まりは、BASFと緊密な協力関係にあるパートナー欧州で新たなチップ製造工場を建設していることにより、さらに加速している。BASFは、戦略的パートナーとの長期的な関係に基づき、半導体向け化学品のバリューチェーンに投資しています。

新プラントで生産されるNH4OH EGは、先進的なノードのチップテクノロジーに不可欠なものであり、自動車産業や人工知能(AI)をはじめとする欧州の主要産業にとって極めて重要な、次世代半導体の実現を可能にする。
BASFの電子材料部門シニアバイスプレジデントであるイェンス・リーバーマン氏は次のように述べています。「この地域における成長を目指すお客様から、長期的な戦略的パートナーとしてBASFを信頼いただいていることを、感謝するとともに誇りに思います。」 また、BASFグローバル事業部門プレジデントであるゴプス・ピレイは次のように述べています。「今回の新たな投資は、当社の能力をさらに高めるとともに、欧州の半導体産業を支援するという当社のコミットメントとプレゼンスを強化するものです」
BASFは、イノベーションとサステナビリティの促進に取り組んでおり、新プラントは半導体産業における両分野の推進において重要な役割を果たすとともに、欧州経済にも貢献する。
BASFは、半導体製造に不可欠な高純度の単一バルクケミカルや特殊な化学フォーミュレーションを供給するグローバルリーダーであり、洗浄、エッチング、金属蒸着、化学機械的平坦化(CMP:Chemical Mechanical Planarization)といった、半導体製造工程で主に使用される材料の包括的なポートフォリオを提供している。
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