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2025/11/19

【半導体】奥野製薬工業、「琵琶湖半導体構想」に参画

　奥野製薬工業は、次世代パワー半導体技術の実用化と普及を目指す「琵琶湖半導体構想」 に参画した。同構想は、"びわこが新しい半導体の源を創出する" というビジョンのもと、参画する企業や研究機関が密接に連携し、省エネルギー化に大きく貢献する技術革新を創出することを目的としている。奥野製薬工業は、Patentixとともに、同構想の中核メンバーとして活動していく。
　世界的に持続可能な未来への関心が高まる中、エネルギー効率の向上が喫緊の課題となっている。この課題解決の鍵となるのが、次世代パワーデバイスに必要とされる超ワイドバンドギャップ（UWBG）半導体材料「二酸化ゲルマニウム（GeO2）」。「琵琶湖半導体構想」は、この世界最先端のパワー半導体材料GeO2の社会実装を加速させるため、主に以下の3つの実現を目指す。
1. GeO2ウェハーのサプライチェーンの構築
2. GeO2パワー半導体の実用化・普及
3. GeO2パワー半導体搭載製品の共同開発
　奥野製薬工業は、長年培ってきた表面処理薬品およびプロセスの研究開発を核として、Patentixをはじめとする参画パートナーの皆様と強力に連携し、ミストCVD装置用Ge溶液の製造販売、ならびにミストCVDを用いた半導体後工程向け表面処理薬品プロセスの提案、試験評価用卓上ミストCVD装置の開発を通じて持続可能な未来の成長に貢献していく。

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