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2024/7/3

【半導体】Patentixの「世界初の次世代半導体二酸化ゲルマニウムの実用化に向けたバルク結晶開発」、Go-Tech事業に採択

　Patentix（パテンティクス）は、令和6年度の「経済産業省成長型中小企業等研究開発支援事業（Go-Tech事業）」に、「世界初の次世代半導体二酸化ゲルマニウムの実用化に向けたバルク結晶開発」を研究開発題目として応募し、採択された。
　同事業は、4.6eVという巨大なバンドギャップをもち、n型、p型の両伝導が理論的に予測されている新規次世代半導体r-GeO2の早期社会実装を目指すもの。
　実用化の第一段階として世界最大となるセンチメートル級の大型結晶の研究開発を事業期間内に行い、研究開発用途の二酸化ゲルマニウム基板の事業化を目指す。