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2024/6/12

【半導体フォトレジスト用感光性ポリマー】三菱ケミカルグループ、「リソマックス」の生産能力を増強

　三菱ケミカルグループ※1は、フォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス™」の生産能力を増強するため、三菱ケミカル九州事業所・福岡地区（福岡県北九州市）において、ArF（フッ化アルゴン）フォトレジスト用リソマックス™およびEUV（極端紫外線）フォトレジスト用リソマックス™の各量産設備を新設することを決定した。

　フォトレジスト用感光性ポリマーは、半導体の回路パターンをウエハーに転写するフォトリソグラフィー工程で使用されるフォトレジストの主成分となる樹脂。同社グループのリソマックス™は、金属含有量や不純物が少ないため、半導体の回路の微細化にともなう高度な品質要求に対応できることから、多くのフォトレジストメーカーに採用されている。中でも、一層の微細化に不可欠なArFフォトレジストおよびEUVフォトレジストは日本企業が圧倒的なシェアを持ち、今後も市場成長が見込まれることから、原料であるリソマックス™の需要も着実に拡大することが見込まれる。

　同社グループは現在、関東事業所・鶴見地区（神奈川県横浜市）でリソマックス™を生産しているが、拡大する需要に対応するとともにサプライチェーンの強靭化を図るため、九州事業所・福岡地区に量産設備を新設することとした。これにより、ArFフォトレジスト用リソマックス™は生産能力が2倍以上になるとともに、EUVフォトレジスト用リソマックス™の初めての量産を開始する。

　同社グループは、半導体製造工程においてさまざまな材料およびサービスをラインナップしており、引き続き高品質かつ安定的な供給を行なうことで半導体業界に貢献していく考えだ。

１．立　　地   　　　　　三菱ケミカル株式会社 九州事業所・福岡地区
　　　　　　　　　　　　（福岡県北九州市八幡西区黒崎城石1-1）

２．製　　品                 フォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス™」

３．稼働時期（予定）　　ArFフォトレジスト用リソマックス™　 2025年10月
　　　　　　　　　　　　EUVフォトレジスト用リソマックス™    2025年9月

リソマックス™製品サイト
https://www.m-chemical.co.jp/products/departments/mcc/semicon/product/1200368_7244.html

三菱ケミカルグループの半導体関連製品・サービス紹介サイト
https://www.mcgc.com/news_release/pdf/01686/01939.pdf

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