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2024/12/4

【地方発明表彰】リガク、X線装置が特別賞2件を2年連続受賞

　リガク・ホールディングスのグループ会社である、X線分析装置の世界的ソリューションパートナーのリガクは、計3件の特許技術が令和6年度の地方発明表彰（主催：公益社団法人発明協会）を受賞した。特別賞2件の受賞は2年連続となる。
　この度の受賞を励みに、今後もリガクは先端X線技術のスペシャリストとしてX線が持つ可能性をより一層追求していく。

【特別賞】
パワー半導体の研究や品質管理に貢献する
「化合物ウェーハ検査用X線トポグラフィ装置」
　本発明では、電力の変換ロスを大幅に削減できる化合物半導体ウェーハ全面の結晶欠陥を非破壊で測定し、得られた画像によって、欠陥の位置や種類を高感度で特定することが可能。さらに、X線の反射や透過像を高速に処理できる。(※1)
　これらの技術がパワー半導体の研究や品質管理に大きく貢献している。本技術はハイスループット＆高分解能X線トポグラフイメージングシステム「XRTmicron」に搭載されている。

受賞名：関東地方発明表彰特別賞「中小企業庁長官賞」
発明名称：「化合物ウェーハ検査用X線トポグラフィ装置」（特許第5838114号）
発明者：表和彦、上ヱ地義徳、松尾隆二、菊池哲夫
実施功績賞：川上潤
発明詳細：https://koueki.jiii.or.jp/hyosho/chihatsu/R6/jusho_kanto/detail/chusho1.html
製品詳細：https://rigaku.com/ja/products/semiconductor-metrology/xrt/xrtmicron
※1　従来の1枚数時間を数分に短縮

汚染物質を非破壊かつ高感度・高速で検出ができる
「ウェーハエッジ測定可能なTXRF検査装置」
　従来の全反射蛍光X線分析(TXRF)ではウェーハエッジ付近の正確な汚染物質の定量を行うことが困難であった。
　本発明では、ウェーハエッジ付近の測定でもウェーハの面積を正確に算出し、単位面積当たりの汚染量を精度良く求める。これにより、ウェーハ全面の汚染のマッピング測定が可能。本技術は、全反射蛍光X線分析装置「TXRF‐3760」「TXRF-310Fab」「TXRF-V310」などに搭載されている。より高感度・高速で汚染物質の検出が可能となったことで、品質管理にさらに貢献する

受賞名：近畿地方発明表彰特別賞「大阪発明協会会長賞」
発明名称：「ウェーハエッジ測定可能なTXRF検査装置」（特許第4514785号）
発明者：清水康裕、河野浩、池下昭弘
製品詳細：https://rigaku.com/ja/products/semiconductor-metrology/txrf

【発明奨励賞】
高効率＆低被ばくで撮影ができる
「息止めセンサー不要の呼吸同期X線CT」
　従来の呼吸拍計などのセンサーを用いたCT同期撮影では、実際の呼吸に同期して撮影をするか、必要な投影角度のデータを収集するために複数回の撮影を行う必要があった。
　本技術は、CT撮影を行う際のX線透過データから呼吸拍信号を抽出し、呼吸同期撮影を行う。これにより息止めや呼吸拍センサー無しで効率良く撮影することが可能。また2回転撮影で呼吸同期データを収集できるため、複数回の撮影を行う必要がなく、短時間かつ低被ばくで呼吸同期CT撮影を行うことが可能。本技術はX線CT装置「StellaScan」「CosmoScan」などに搭載されている。

受賞名：関東地方発明表彰「発明奨励賞」
発明名称：「息止めセンサー不要の呼吸同期X線CT」（特許第4852451号）
発明者：原幸寛、山田鮎太
製品詳細：https://rigaku.com/ja/products/imaging-ndt/biological-imaging

・「XRTmicron」「StellaScan」「CosmoScan」は、株式会社リガクの商標または登録商標

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