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2024/9/26

【EUV露光機用ペリクル】リンテック、先端半導体向け量産体制確立を加速。産総研とナノリソグラフィ要素技術に関する共同研究を推進

　リンテックグループは先端半導体の微細回路形成に欠かせないEUV露光機用ペリクル（防塵材料）の第一次量産体制の構築を図るべく、2023年10月から産業技術総合研究所の先端半導体研究センターと共同研究を推進している。このたび、これまで行ってきた研究成果を元に、量産化の見通しを立て、2025年度内の量産体制確立に向け、さらに取り組みを強化していく。

量産体制確立に向けた取り組みを着実に推進

　先端半導体の微細回路形成には、EUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外線）露光機が用いられているが、露光機の性能向上に伴い、より高耐久のペリクルの開発が求められている。ペリクルとは、フォトマスク（回路パターンの原版）への異物の付着を防ぐ防塵膜の役割を果たす部材。EUVに対する透過性や耐熱性、耐久性が要求され、半導体の生産性向上に貢献することができる。
　先端半導体において日本の製造装置・材料の重要性が増している中、リンテックグループではカーボンナノチューブ（CNT：筒状炭素分子）シートの開発を手がけている米国・テキサス州の研究開発拠点において、高耐久のCNT製ペリクルの開発に着手し、2023年に要素技術を確立した。また、同年10月には産総研と量産化技術の共同研究を開始し、今年の7月には同社グループが独自開発したCNT製ペリクルの量産機の立ち上げに成功した。このたび、これらの研究成果を元に、量産化の見通しが立った。

研究開発の成果を結集し、社会実装へ
　今回、産総研と次世代半導体デバイス製造向けナノリソグラフィ要素技術の共同研究を行うと共に、リンテックグループではCNT製ペリクルの量産体制確立に向けて、米国・テキサス州のほか、国内の研究所(埼玉県さいたま市)でペリクルの要素技術の開発を推進している。また、半導体関連装置などの設計・開発拠点(埼玉県北足立郡)で独自設計の量産機を開発。さらに、EUV透過率測定装置などのペリクル特性の評価装置の開発も行っている。これらの研究開発の成果を結集し、2025年度内の量産体制の確立および早期の社会実装へとつなげていく。

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