本装置は、真空中でフレキシブル基材へRoll-to-Roll方式により弊社独自開発の超低抵抗、高透過率ITO膜　又は誘電体膜、金属膜などの機能膜のコーティングを行う真空成膜装置です。

《特徴》
・低テンションでの搬送が可能
・プロセス室のガス高セパレーションが可能
・独自開発の表面処理技術により高密着力が可能
・ピンホールや微小傷、粒子欠陥なく成膜が可能
・メインロールは冷却及び加熱も可能

《各仕様》
・基材（フィルム）：PET、COP、PC、PES等、金属箔
・速度：0.2〜10 m/min
・基材巾：300〜1350 ｍｍ（任意巾での対応可能）
・基材長：200〜2500 ｍ（任意長さでの対応可能）

・巻取システム
　張力フィードバック制御＋速度制御

・成膜源
　高効率マグネトロンスパッタ方式（DC、DCパルス、RF電源等）
　蒸着方式（電子銃、抵抗加熱）
　その他

・真空排気システム
　ターボ分子ポンプ＋ポリコールドチラー＋クライオポンプ＋
排気ユニット（メカブ＋ロータリーポンプ）
　排気速度：5×10－3Paまで15分以内
　到達圧力：10－5Pa 台

・前処理システム
　弊社独自開発の表面処理機構